光栅是一种由条状透镜组成的薄片，它能够根据观察角度展示不同的图像。光栅的制作可以通过以下几种技术实现：
机械刻划法
使用金刚石刀等硬质材料在光栅基底上刻出等宽等间距的平行刻痕。
基底材料需要保持平整和稳定，刻划工具运动轨迹需精确控制。
光刻法
在基底材料上涂覆光刻胶，然后使用光源（如紫外光）对光刻胶进行曝光。
曝光后的光刻胶显影，去除未曝光或曝光不足部分，留下与掩模版图案相对应的光栅线条。
使用化学或物理方法对基底材料进行刻蚀，形成最终的光栅结构。
电子束曝光法
利用电子束作为曝光源，直接在基底材料上绘制光栅图案。
具有高分辨率和小的线宽限制，适合制造高精度、高密度的光栅结构。
光栅可以应用于紫外到中红外的波段，并且根据类型可以分为刻线（闪耀）、全息、阶梯和透射式等